🧪 kosha2002_027_027
📄 이 사건의 질병 레코드
⚗️ 유해물질 측정 2건
| 측정시기 | 물질 | 농도 | 단위 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
|
0.002-0.020 | ppm | 헤드스페이스법에 의하면 벤젠의 노출수준은 0.002-0.020 ppm으로 추정할 수 있다. |
| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
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0.00016 - 0.0021 | ppm | 헤드스페이스법에 의한 벤젠함유량은 휘발성물질 중의 분량이므로 이를 중량대비로 계산하면 0.00016 - 0.0021 ppm 수준이었다. |
📅 노출기간 3건
| 시작시기 | 종료시기 | 총기간 | 빈도 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 1992년 11월 | 1999년 1월 | — | — | 송OO은 1992년 11월부터 1999년 1월까지 튜너(TU)제조3과에서 설비오퍼레이터로 자재교환 및 칩(CHIP) 검사, 마스크 및 PCB를 세척하는 업무를 수행하였다. |
| 1999년 1월 | 2001년 1월 | 1년 간 | — | 1999년 1월 이후 발병 전까지 1년 간은 관리보조업무(검사수리업무, 탤런트)를 담당하였다. |
| — | — | — | 보통 2-3일에 한 번씩 신너 취급 | 신너는 세척실의 통에 들어있는 것을 직접 밸브를 열어 담아와서 썼다. 보통 2-3일에 한 번씩 신너를 담아왔으며 사용량은 기계 종류에 따라 다르기 때문에 일정하지 않았다. |
🏭 작업환경 3건
| 공정 | 환기설비 | 환기 불량한 공간 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| 땜수리 및 세척업무 | — | — | 송OO은 1992년 S전기에 입사하여 땜수리와 세척업무를 하였다.
송OO은 1992년 11월부터 1999년 1월까지 튜너(TU)제조3과에서 설비오퍼레이터로 자재교환 및 칩(CHIP) 검사, 마스크 및 PCB를 세척하는 업무를 수행하였다. |
| 관리보조업무 | — | — | 1999년 1월 이후 발병 전까지 1년 간은 관리보조업무(검사수리업무, 탤런트)를 담당하였다. |
| — | 불명 | — | 현재 배기 시설은 1996년에 설치되었다. |
🦺 보호구 1건
| 종류 | 착용여부 | 적정성 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| 호흡보호구 | 착용 | — | 세척 시에는 항상 유기용제용 마스크를 착용하였다. |