🧪 kosha2014_005_006
📄 이 사건의 질병 레코드
유해물질 노출 기록 3건
| 측정시기 | 물질 | 농도 | 단위 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 불명 |
벤젠
→ 벤젠 · CAS 71-43-2 · IARC 1
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— | — | 피재자가 과거 근무하였던공정을 대상으로 작업환경측정을 실시한 결과 벤젠, 에틸렌옥사이드는 모두 검출 한계미만이었으며 |
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수치·판단의 출처:
미확인
규칙 제안·사람 미검수
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| 불명 |
에틸렌옥사이드
→ 산화에틸렌 · CAS 75-21-8 · IARC 1
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— | — | 피재자가 과거 근무하였던공정을 대상으로 작업환경측정을 실시한 결과 벤젠, 에틸렌옥사이드는 모두 검출 한계미만이었으며 |
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수치·판단의 출처:
미확인
규칙 제안·사람 미검수
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| 불명 |
포름알데히드
→ 포름알데히드 · CAS 50-00-0 · IARC 1
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불검출~0.0123 | ppm | 포름알데히드는 매우 낮은 수준(불검출~0.0123ppm)으로 노출되고 있었다 |
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수치·판단의 출처:
미확인
규칙 제안·사람 미검수
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근거 유형은 해당 수치·판단이 원문에서 생성된 방식을 구분한 것입니다. 분류 이유·물리량 등은 각 항목에서 확인할 수 있습니다. 검토 상태는 별도로 표시합니다. AI 분류는 예비 결과이며, 1인 검토는 최종 확정 전 단계입니다.
📅 노출기간 1건
| 시작시기 | 종료시기 | 총기간 | 빈도 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|---|
| 2005년 6월 | — | 약 5년7개월 | — | 근로자 ○○○은 약 5년7개월간 업무를 수행하는 동안 벤젠과 포름알데히드에 노출되지 않았거나 노출되었다 하더라도 매우 낮은 수준으로 노출되었을 것으로 추정된다. |
🏭 작업환경 2건
| 공정 | 환기설비 | 환기 불량한 공간 | 원문 인용 |
|---|---|---|---|
| TFT-LCD 제조공정 유지・보수 작업 | — | — | 근로자 ○○○은 □디스플레이 사업장에서 근무하는 동안 주로 TFT-LCD 제조공정 유지・보수 작업을 하였으며, 근무기간 동안 소속부서가 바뀌기는 했지만 주 작업은 큰 차이가 없었다. |
| Array 제조 공정, Cell 제조 공정, Module 제조공정 | — | — | 피재자가 과거 근무하였던 공정을 대상으로 작업환경측정을 실시한 결과 벤젠, 에틸렌옥사이드는 모두 검출 한계미만이었으며, 포름알데히드는 매우 낮은 수준(불검출~0.0123ppm)으로 노출되고 있었다. |
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